5nm太难！台积电5nm带来的频率提升仅15%

现在，台积电以及三星已经开始量产7nm，但Intel的10nm仍然在跳票当中。三星和台积电当然不会等Intel，5nm也应该要提上日程了，日前台积电公开了部分5nm工艺制程的相关规格，但看上去并不如理想。

台积电5nm工艺将会使用荷兰ASML Twinscan NXE:3400 EUV光刻机系统，进一步加大EUV的适用范围，相比7nm晶体管密度可以增加80%，从参数上看性能本应该有相当大幅度的提升。但是，5nm所带来的频率提升实际上只有15%，功耗也智能降低20%左右。

由于新技术尚不成熟，不管是技术、成本还是生产良率，都不能满足量产的需求，所以采用5nm工艺制程的新品不会在近期内推出。不过，明年台积电的第二代7nm将会尝试使用EVU极紫外光刻系统，提升工艺，晶体管密度可以在第一代的基础上增加20%。

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